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ELECTRONIC MATERIALS

被動元件用膠

以高粉體可加工性、雙重固化與耐 250°C Reflow 設計,支援微型被動元件可靠成形與組裝。

從一體成型電感、耐熱接著到 EMI 結構,點量依粉體、間隙、點膠與可靠度條件建立客製配方。

被動元件、電感與高粉體膠材應用情境
應用領域圖示 - 被動元件與微型電感

應用場景

被動元件/微型電感

關鍵技術圖示 - 高粉體含量與加工性

材料能力

高粉體仍可加工

核心優勢圖示 - 耐 250°C Reflow

製程基準

250°C Reflow

FORMULATION DESIGN

三項條件必須一起成立

技術核心圖示 - 流變控制與高粉體可加工性

粉體與流變

控制粒徑分布、分散與觸變,使高填充材料在點膠時能流動,成形後不塌陷、不沉降。

技術核心圖示 - Dual-Cure 雙重固化策略

完整固化

UV 快速定位、熱反應補足遮光與深層區域,依元件幾何及產線節拍配置固化窗口。

技術核心圖示 - 耐 Reflow 分子設計

高溫可靠度

從樹脂網路、界面與熱膨脹差異管理迴流後裂紋、分層、氣泡與殘留應力。

三種常見工程場景

UV 與熱雙重固化流程示意

微型元件成形

在細小間隙內兼顧填充、定型與遮光區固化,降低節拍與固化完整性的衝突。

迴流焊後裂紋、分層與氣泡失效示意

耐熱接著

用接近量產的升溫曲線評估迴流後界面與膠體,而非用單一耐溫標稱取代驗證。

EMI 屏蔽蓋與結構膠層剖面示意

EMI 結構

先確認膠層只負責固定,或同時位於導電路徑,再決定絕緣或導電的配方方向。

FAQ

常見技術問題

01被動元件用膠與一般結構膠有何不同?

它除了固定,還要配合高粉體含量、微小間隙、固化節拍、迴流焊與電氣需求。配方必須在功能填料、流變、界面與可靠度之間取得平衡。

02高粉體含量為什麼需要流變控制?

粉體增加會提高黏度與團聚、沉降風險。適當的粒徑分布、分散與觸變設計,才能讓配方點膠時流動、停止後維持形狀。

03Dual-cure 雙重固化解決什麼問題?

UV 可快速定位,但照不到的陰影區可能固化不足;後續熱固化可完成深層與遮光區反應,兼顧節拍與固化完整性。

04耐 250°C Reflow 要如何驗證?

應使用實際基材、膠層厚度與接近量產的升溫曲線,檢查迴流後的黏著、裂紋、分層、氣泡及尺寸穩定性,而不是只看樹脂的單一耐溫數字。

05EMI 應用一定需要導電膠嗎?

不一定。若膠只固定金屬屏蔽件,結構與耐熱可能更重要;只有膠層位於接地或導電路徑時,才需要把導電性與接觸電阻納入規格。

把材料條件對齊量產製程

提供粉體、膠點尺寸、固化、迴流與電氣需求,我們會協助規劃打樣與驗證。